532nm、785nm激光器,高分辨率光栅、徕卡显微镜系统、电化学池原位系统
该仪器主要应用于材料、能源、物理等领域的物质结构鉴定和分子相互作用分析,包括532nm、785nm激光器,高分辨率光栅、徕卡显微镜系统、电化学池原位系统,设备具有高稳定性、高灵敏度及高自动化的功能。
该设备配备高速超精度自动平台,具有快速成像功能,快速表征得到样品化学结构信息,可对透明或半透明样品进行三维成像。可对样品点、线、面进行扫描成像,并可对微小样品的微区结构、成分进行分析鉴定。
激光器: 532nm(功率50mW)、785nm(功率300mW)
显微镜焦距: 5×(NA 0.12, WD 14 mm)、20×(NA 0.4, WD 1.15 mm)
50× 长焦(NA 0.50, WD 8.2 mm)、100×(NA 0.85, WD 0.33 mm)
光谱分辨率: 优于1cm; 光谱重复性: 优于+0.02cm
光谱灵敏度: 单晶硅第三阶拉曼信号信噪比大于50:1
成像曝光时间:>1ms;成像平台位移精度:0.1μm
成像空间分辨率:XY平面>0.3μm,Z轴>1μm